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用于半導(dǎo)體制造工藝的單組分密度計介紹

發(fā)布時間:2021-11-18 點(diǎn)擊量:915

用于半導(dǎo)體制造工藝的單組分密度計介紹


產(chǎn)品概覽

該型號在保留 FUD-1 Model-13 的可維護(hù)性和高精度在線測量等優(yōu)點(diǎn)的同時,配備了用于半導(dǎo)體制造工藝的小型單元發(fā)射器。


單組分密度計的特點(diǎn)

實(shí)時濃度測量成為可能,并且易于構(gòu)建濃度控制系統(tǒng)。

  • 標(biāo)配模擬DC4-20mA和數(shù)字RS232C

  • 標(biāo)配測量誤差輸出和報警輸出

  • 標(biāo)配自診斷功能和錯誤信息顯示

  • 緊湊輕便的單元式變送器可直接安裝在線路上

  • 由于使用 PFA 的接液部件的質(zhì)量和小輸出設(shè)計,對化學(xué)溶液沒有影響。


優(yōu)點(diǎn)

  • 可進(jìn)行高精度連續(xù)測量

  • 免維護(hù),無需定期調(diào)整和校準(zhǔn)

  • 安裝方便,安裝過程中無需進(jìn)行各種調(diào)整

  • 通過實(shí)時輸出輕松反饋過程


用途

  • CMP工藝中的CMP漿料或氧化劑濃度控制等。

  • 稀釋過程中各種化學(xué)品的濃度控制(H2O2、TMAH、HNO3、H2SO4、HCl等)

  • 清洗過程中清洗液濃度控制(HF、NH4OH、KOH、IPA等)

  • 蝕刻過程中蝕刻液濃度控制(HF、H2SO4等)


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